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Development of a CCD/CMOS VLSI Technology Especially Tailored for Smart Optical Sensors 1-gen-1991 Soncini, Giovanni; Bellutti, Pierluigi; Zen, Mario; M. C., Vecchi; Massimo, Rudan
Thin film technology in the development of IRST-CCD/CMOS VLSI fabrication process 1-gen-1993 Bellutti, Pierluigi; Boscardin, Maurizio; Giacomozzi, Flavio; Pedrotti, Severino; Zen, Mario; Soncini, Giovanni
Intrinsic Gettering in a CCD/CMOS Process 1-gen-1994 Bellutti, Pierluigi; R., Bovo; Boscardin, Maurizio; Soncini, Giovanni; Zen, Mario; Zorzi, Nicola
Bird`s Beak Reduction by Dry LOCOS Technique 1-gen-1994 Bellutti, Pierluigi; Boscardin, Maurizio; Lui, Alberto; Soncini, Giovanni; Zen, Mario; Zorzi, Nicola
Charge Coupled Devices for Imaging 1-gen-1994 Soncini, Giovanni; Maglione, Alfredo; Zen, Mario; Bellutti, Pierluigi; Zorzi, Nicola; Gottardi, Massimo
Gettering intrinseco in silicio semiconduttore 1-gen-1994 Bellutti, Pierluigi; Boscardin, Maurizio; Zorzi, Nicola; R., Bovo; P., Rossetto; Soncini, Giovanni
Proposal for a Simplified CMOS VLSI Fabrication Sequence 1-gen-1995 Bellutti, Pierluigi; Boscardin, Maurizio; Giacomozzi, Flavio; Soncini, Giovanni; Zen, Mario; Zorzi, Nicola
An Integrated Imager-Display with Pipelined Processing 1-gen-1995 D. C., Burns; Bellutti, Pierluigi; A., Sartori; Soncini, Giovanni; I., Underwood
An Integrated CCD/CMOS Imager Display 1-gen-1995 D. C., Burns; Gottardi, Massimo; Bellutti, Pierluigi; I., Underwood
Smart Vision Chips in CCD and CCD/CMOS Technologies 1-gen-1995 Soncini, Giovanni; Bellutti, Pierluigi; Boscardin, Maurizio; Giacomozzi, Flavio; Gottardi, Massimo; Zen, Mario
On the choice of the optimum silicon substrate for CCD/CMOS technology 1-gen-1995 Bellutti, Pierluigi; Boscardin, Maurizio; Soncini, Giovanni; Zen, Mario; Zorzi, Nicola
DW-LOCOS: a convenient VLSI isolation technique 1-gen-1995 Bellutti, Pierluigi; Boscardin, Maurizio; Soncini, Giovanni; Zen, Mario; Zorzi, Nicola
Thicking Effect in Dry/Wet Field Oxidation 1-gen-1995 Bellutti, Pierluigi; Zen, Mario; Soncini, Giovanni
An efficient method to predict drain current dispersion in MOS transistors from technological parameters fluctuations 1-gen-1995 M., Conti; S., Orcioni; C., Turchetti; Bellutti, Pierluigi; Zen, Mario; Zorzi, Nicola; Soncini, Giovanni
Cathode and Anode Traps in High-Voltage Stressed Silicon Oxides 1-gen-1996 L., Chen; C., Kang; D., Dumin; A., Brown; Bellutti, Pierluigi
Forward and Reverse Characteristics of Irradiate MOSFETs 1-gen-1996 A., Paccagnella; M., Ceschia; G., Verzellesi; Dalla Betta, Gian Franco; P. G., Fuochi; Bellutti, Pierluigi; Soncini, Giovanni
Oxide Growth Effects in Micron and Sub-Micron Field Regions: A Comparison Between Wet and Dry Oxidation 1-gen-1996 Bellutti, Pierluigi; Zen, Mario
Improvement of Gate Oxide Quality at the Active Region Border 1-gen-1996 Bellutti, Pierluigi
On the improving of the gate oxide reliability 1-gen-1996 Bellutti, Pierluigi; Boscardin, Maurizio; Zen, Mario; Zorzi, Nicola
Interstitial oxygen concentration role in the DW-Locos CMOS technology 1-gen-1996 Bellutti, Pierluigi; Boscardin, Maurizio; Zen, Mario; Zorzi, Nicola; D., Vrtacnik; M., Calderara; Soncini, Giovanni
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