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Interactions between lead oxide and ceramic substrates for thick film technology 1-gen-1997 Bersani, Massimo; Morten, Bruno; Prudenziati, Maria; Gualtieri, Alessandro
Characterisation of RTA Oxynitrides by SIMS and XPS Analyses 1-gen-1998 Bersani, Massimo; Vanzetti, Lia Emanuela; M., Sbetti; Anderle, Mariano
Quantitative SIMS Depth Distribution of Nitrogen in Nitrided Oxide at the SiO2/Si Interface 1-gen-1998 Bersani, Massimo; Fedrizzi, Michele; G., Ferroni; C., Savoia; Anderle, Mariano
A comparison between mass spectrometry techniques on oxynitrides 1-gen-1998 Bersani, Massimo; M., Sbetti; Anderle, Mariano
Luminescence from Erbium-Doped Silicon Epi Layers Grown by Liquid-Phase Epitaxy 1-gen-1998 S., Pizzini; M., Donghi; S., Binetti; G., Wagner; Bersani, Massimo
Surface Analysis Studies of Bidri Archaeomaterials from the Collection of the British Museum 1-gen-1998 E., Paparazzo; L., Moretto; Bersani, Massimo; Fedrizzi, Michele; Anderle, Mariano
Surface analytical techniques for last generation ULSI microelectronic materials and processing 1-gen-1998 Bersani, Massimo
Technical report ITC-irst/SGS-Thomsn 1-gen-1998 M., Sbetti; Bersani, Massimo
Dopant Redistribution Analysis in RiSi2/Si Systems by SIMS 1-gen-1998 M., Sbetti; Bersani, Massimo; Fedrizzi, Michele; S. a., Beccara; Anderle, Mariano
Characterization of RTP Oxynitrides by SIMS and XPS Analyses 1-gen-1998 Bersani, Massimo; Vanzetti, Lia Emanuela; M., Sbetti; Anderle, Mariano
ULSI Technology and Materials: Quantitative Answers by Combined Mass Spectrometry Surface Techniques 1-gen-1998 Bersani, Massimo; Fedrizzi, Michele; M., Sbetti; Anderle, Mariano
Caratterizzazione SIMS ToF-SIMS e XPS di Ossidonitruri 1-gen-1998 M., Sbetti; Vanzetti, Lia Emanuela; Bersani, Massimo; Anderle, Mariano
Interactions between bismuth oxide and ceramic substrates for thick film technology 1-gen-1998 S., Imovilli; B., Morten; M., Prudenziati; A., Gualtieri; Bersani, Massimo
Which Colour? 1-gen-1999 Bersani, Massimo; Canteri, Roberto; M., Sbetti; Vanzetti, Lia Emanuela; Anderle, Mariano
Characterization of rapid Thermal Processing Oxynitrides by SIMS and XPS Analyses 1-gen-1999 Bersani, Massimo; Vanzetti, Lia Emanuela; M., Sbetti; Anderle, Mariano
Oxidation of PIII (Plasma Immersion Ion Implanted)-doped Silicon: study of Arsenic redistribution by SIMS and XPS 1-gen-2000 Bersani, Massimo; M., Sbetti; Vanzetti, Lia Emanuela; V., Soncini
High Quality Thin Oxynitride by RTP annealing of ISSG Oxides for Flash Memory Applications 1-gen-2000 D., Brazzelli; G., Ghidini; B., Crivelli; R., Zonca; Bersani, Massimo
Effects of donor concentration on transient enhanced diffusion of boron in silicon 1-gen-2000 S., Solmi; Bersani, Massimo
Ultra thin NO/N2O oxinitride dielectric for advanced flash memory application: single wafer and batch technology 1-gen-2000 B., Crivelli; R., Zonca; M. L., Polignano; F., Cazzaniga; M., Alessandri; Bersani, Massimo; Vanzetti, Lia Emanuela; M., Sbetti; C. G., Xing; G. E., Miner; N., Astici; S., Kupparo; D., Lopes
ToF-SIMS quantification of trace metal contaminants on silicon wafer: RSF's evaluation and characterization of wet cleaning processes 1-gen-2000 Lazzeri, Paolo; M. L., Polignano; L., Moro; D., Caputo; D., Lodi; Bersani, Massimo
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