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Titolo Data di pubblicazione Autore(i) File
Calibration correction of ultra low energy SIMS profiles based on MEIS analysis of shallow arsenic implants in silicon 1-gen-2013 Demenev, Evgeny; Giubertoni, Damiano; M. A., Reading; P., Bailey; T. C. Q., Noakes; Bersani, Massimo; J. A., van den Berg
Characterisation of RTA Oxynitrides by SIMS and XPS Analyses 1-gen-1998 Bersani, Massimo; Vanzetti, Lia Emanuela; M., Sbetti; Anderle, Mariano
Characterization of a thermal oxidation process on SiC preamorphized by Ar ion implantation 1-gen-2004 A., Poggi; R., Nipoti; S., Solmi; Bersani, Massimo; Vanzetti, Lia Emanuela
Characterization of rapid Thermal Processing Oxynitrides by SIMS and XPS Analyses 1-gen-1999 Bersani, Massimo; Vanzetti, Lia Emanuela; M., Sbetti; Anderle, Mariano
Combined XPS, SIMS and AFM analysis of silicon nanocrystals embedded in silicon oxide layers 1-gen-2008 Vanzetti, Lia Emanuela; Barozzi, Mario; Iacob, Erica; Bersani, Massimo; Pucker, Georg; Bellutti, Pierluigi
Comparison between the SIMS and MEIS techniques for the characterization of ultra shallow arsenic implants 1-gen-2006 Giubertoni, Damiano; Bersani, Massimo; Barozzi, Mario; S., Pederzoli; Iacob, Erica; J., van den Berg; M., Werner
Compatibility study of Ti and Ge2Sb2Te5 for phase-change memory applications 1-gen-2012 V. A., Venugopala; G., Ottaviani; R., Tonini; Bersani, Massimo
Complementary metrology within a European joint laboratory 1-gen-2009 A., Nutsch; B., Beckhoff; R., Altmann; Jaap van den, Berg; Giubertoni, Damiano; P., Hoenicke; Bersani, Massimo; A., Leibold; Meirer, Florian; M., Mueller; Pepponi, Giancarlo; M., Otto; P., Petrik; M., Reading; L., Pfitzner; H., Ryssel
Copper-titanium thin film interaction 1-gen-2004 L., Castoldi; G., Visalli; S., Morin; P., Ferrari; S., Alberici; G., Ottavini; F., Corni; R., Tonini; C., Nobili; Bersani, Massimo
Correlation of local structure and electrical activation in arsenic ultrashallow junctions in silicon 1-gen-2008 Giubertoni, Damiano; Pepponi, Giancarlo; Gennaro, Salvatore; Bersani, Massimo; Mehmet, Sahiner; Stephen, Kelty; Roisin, Doherty; Majeed, Foad; Max, Kah; K. J., Kirkby; Joseph, Woicik; P., Pianetta
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Tipologia
  • 1 Contributo su Rivista 113
  • 1 Contributo su Rivista::1.1 Arti... 113
Autore
  • Giubertoni, Damiano 59
  • Barozzi, Mario 34
  • Vanzetti, Lia Emanuela 29
  • Anderle, Mariano 19
  • Gennaro, Salvatore 19
  • Iacob, Erica 19
  • Pepponi, Giancarlo 13
  • Lazzeri, Paolo 10
  • Demenev, Evgeny 9
  • Meirer, Florian 7
Data di pubblicazione
  • 2020 - 2022 2
  • 2010 - 2019 30
  • 2000 - 2009 76
  • 1997 - 1999 5
Editore
  • Elsevier 17
  • American Institute of Physics 14
  • AVS 3
  • Wiley 3
  • EDP Sciences 1
  • IOP Publishing 1
  • Scientific.net 1
  • Springer 1
Rivista
  • APPLIED SURFACE SCIENCE 15
  • JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 11
  • JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHN... 10
  • APPLIED PHYSICS LETTERS 9
  • SURFACE AND INTERFACE ANALYSIS 7
  • NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN ... 5
  • MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING... 4
  • PHYSICA STATUS SOLIDI. C 4
  • SURFACE AND INTERFACE ANALYSIS 4
  • DIFFUSION AND DEFECT DATA, SOLID ... 2
Keyword
  • SIMS 26
  • silicon 25
  • diffusion 18
  • annealing 16
  • ion implantation 16
  • boron 10
  • arsenic 9
  • elemental semiconductors 9
  • semiconductor doping 9
  • doping profiles 8
Lingua
  • eng 97
  • ita 1
Accesso al fulltext
  • no fulltext 106
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  • restricted 1