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Vacancy-engineering implants for high boron activation in silicon on insulator
2006-01-01 A. J., Smith; N. E. B., Cowern; R., Gwilliam; B. J., Sealy; Benjamin, Colombeau; Eric, Collart; Gennaro, Salvatore; Giubertoni, Damiano; Bersani, Massimo; Barozzi, Mario
XPS and SIMS Depth Profiling of Chlorine in High-Temperature Oxynitrides
2002-01-01 Vanzetti, Lia Emanuela; Bersani, Massimo; M., Sbetti; Iacob, Erica; Giubertoni, Damiano; Barozzi, Mario; R., Zonca; B., Crivelli; C., Carpanese; F., Zanderigo
XPS and SIMS Depth Profiling of Oxynitrides
2000-01-01 Vanzetti, Lia Emanuela; Bersani, Massimo; M., Sbetti; Anderle, Mariano
| Titolo | Data di pubblicazione | Autore(i) | File |
|---|---|---|---|
| Vacancy-engineering implants for high boron activation in silicon on insulator | 1-gen-2006 | A. J., Smith; N. E. B., Cowern; R., Gwilliam; B. J., Sealy; Benjamin, Colombeau; Eric, Collart; Gennaro, Salvatore; Giubertoni, Damiano; Bersani, Massimo; Barozzi, Mario | |
| XPS and SIMS Depth Profiling of Chlorine in High-Temperature Oxynitrides | 1-gen-2002 | Vanzetti, Lia Emanuela; Bersani, Massimo; M., Sbetti; Iacob, Erica; Giubertoni, Damiano; Barozzi, Mario; R., Zonca; B., Crivelli; C., Carpanese; F., Zanderigo | |
| XPS and SIMS Depth Profiling of Oxynitrides | 1-gen-2000 | Vanzetti, Lia Emanuela; Bersani, Massimo; M., Sbetti; Anderle, Mariano |
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- 1 Contributo su Rivista 113
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Data di pubblicazione
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- 2010 - 2019 30
- 2000 - 2009 76
- 1997 - 1999 5
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