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EnglishSynchrotron radiation induced total reflection X-ray fluorescence of low Z elements on Si wafer surfaces at SSRL ¯¯ comparison of excitation geometries and conditions, / Christina Streli; Peter Wobrauschek; Peter Kregsamer; Giancarlo Pepponi; P. Pianetta; Siegfried Pahlke; Laszlo Fabry. - In: SPECTROCHIMICA ACTA, PART B: ATOMIC SPECTROSCOPY. - ISSN 0584-8547. - 56(2001), pp. 2085-2094.
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| Titolo: | Synchrotron radiation induced total reflection X-ray fluorescence of low Z elements on Si wafer surfaces at SSRL ¯¯ comparison of excitation geometries and conditions, |
| Autori: | |
| Data di pubblicazione: | 2001 |
| Rivista: | |
| Handle: | http://hdl.handle.net/11582/3860 |
| Appare nelle tipologie: | 1.1 Articolo in rivista |
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http://hdl.handle.net/11582/3860
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