Analysis of low Z elements on Si wafer surfaces with undulator radiation induced total reflection X-ray fluorescence at the PTB beamline at BESSY II / Christina Streli; Giancarlo Pepponi; Peter Wobrauschek; B Beckhoff; G Ulm; Siegfried Pahlke; Laszlo Fably; Thomas Ehmann; Birgid Kanngiesser; Wolfgang Malzer; W Jark. - In: SPECTROCHIMICA ACTA, PART B: ATOMIC SPECTROSCOPY. - ISSN 0584-8547. - 58(2003), pp. 2113-2121.
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Titolo: | Analysis of low Z elements on Si wafer surfaces with undulator radiation induced total reflection X-ray fluorescence at the PTB beamline at BESSY II |
Autori: | |
Data di pubblicazione: | 2003 |
Rivista: | |
Handle: | http://hdl.handle.net/11582/3847 |
Appare nelle tipologie: | 1.1 Articolo in rivista |
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