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Titolo Data di pubblicazione Autore(i) File
ToF-SIMS and AFM studies of low-k dielectric etching in fluorocarbon plasmas 1-gen-2006 P., Lazzeri; X., Hua; G. S., Oehrlein; Iacob, Erica; Barozzi, Mario; Bersani, Massimo; M., Anderle
ToF-SIMS and XPS charcterisation of urban aerosols for pollution studies 1-gen-2003 Lazzeri, Paolo; G., Franco; M., Garozzo; C., Gerardi; Iacob, Erica; Faro A., Lo; A., Privitera; Vanzetti, Lia Emanuela; Bersani, Massimo
ToF-SIMS studies of nanoporous PMSSQ materials: Kinetics and reactions in the processing of low-K dielectrics for ULSI applications 1-gen-2004 Lazzeri, Paolo; G. W., Rubloff; Vanzetti, Lia Emanuela; R. M., Briber; Anderle, Mariano; Bersani, Massimo; H. J. J., Park; C., Kim; W., Volksen; R. D., Miller; Z., Lin
ToF-SIMS study of adhesive residuals on device contact pads after wafer taping and backgrinding 1-gen-2003 Lazzeri, Paolo; G., Franco; M., Garozzo; C., Gerardi; Iacob, Erica; Faro A., Lo; A., Privitera; Vanzetti, Lia Emanuela; Bersani, Massimo
Topography induced by sputtering in a magnetic sector instrument: an AFM and SEM study 1-gen-2004 Iacob, Erica; Bersani, Massimo; A., Lui; Giubertoni, Damiano; Barozzi, Mario; Anderle, Mariano
Total reflection X-ray fluorescence analysis of pollen as an indicator for atmospheric pollution 1-gen-2004 Pepponi, Giancarlo; Lazzeri, Paolo; N., Coghe; Bersani, Massimo; E., Gottardini; F., Cristofolini; G., Clauser; A., Torboli
Transient enhanced diffusion of arsenic in silicon 1-gen-2003 S., Solmi; M., Ferri; Bersani, Massimo; Giubertoni, Damiano; V., Soncini
Ultralow energy boron implants in silicon characterization by nonoxidizing secondary ion mass spectrometry analysis and soft x-ray grazing incidence x-ray fluorescence techniques 1-gen-2010 Giubertoni, Damiano; Iacob, Erica; P., Hoenicke; B., Beckhoff; Pepponi, Giancarlo; Gennaro, Salvatore; Bersani, Massimo
Understanding the role of buried Si/SiO2 interface on dopant and defect evolution in PAI USJ 1-gen-2005 J., Hamilton; E., Collart; B., Colombeau; Bersani, Massimo; Giubertoni, Damiano; J., Sharp; N., Cowern; K. J., Kirkby
Uphill diffusion of ultra-low energy boron implants in preamorphised silicon and SOI 1-gen-2007 M., Ferri; Sandro, Solmi; Giubertoni, Damiano; Bersani, Massimo; Justin, Hamilton; Max, Kah; K. J., Kirkby; Eric, Collart; Nick, Cowern
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Tipologia
  • 1 Contributo su Rivista 113
  • 1 Contributo su Rivista::1.1 Arti... 113
Autore
  • Giubertoni, Damiano 59
  • Barozzi, Mario 34
  • Vanzetti, Lia Emanuela 29
  • Anderle, Mariano 19
  • Gennaro, Salvatore 19
  • Iacob, Erica 19
  • Pepponi, Giancarlo 13
  • Lazzeri, Paolo 10
  • Demenev, Evgeny 9
  • Meirer, Florian 7
Data di pubblicazione
  • 2020 - 2022 2
  • 2010 - 2019 30
  • 2000 - 2009 76
  • 1997 - 1999 5
Editore
  • Elsevier 17
  • American Institute of Physics 14
  • AVS 3
  • Wiley 3
  • EDP Sciences 1
  • IOP Publishing 1
  • Scientific.net 1
  • Springer 1
Rivista
  • APPLIED SURFACE SCIENCE 15
  • JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 11
  • JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHN... 10
  • APPLIED PHYSICS LETTERS 9
  • SURFACE AND INTERFACE ANALYSIS 7
  • NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN ... 5
  • MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING... 4
  • PHYSICA STATUS SOLIDI. C 4
  • SURFACE AND INTERFACE ANALYSIS 4
  • DIFFUSION AND DEFECT DATA, SOLID ... 2
Keyword
  • SIMS 26
  • silicon 25
  • diffusion 18
  • annealing 16
  • ion implantation 16
  • boron 10
  • arsenic 9
  • elemental semiconductors 9
  • semiconductor doping 9
  • doping profiles 8
Lingua
  • eng 97
  • ita 1
Accesso al fulltext
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