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EnglishGrazing Incidence x-ray fluorescence and secondary ion mass spectrometry combined approach for characterization of ultra shallow arsenic distribution in silicon / G. Pepponi; F. Meirer; D. Giubertoni; D. Ingerle; G. Steinhauser; C. Streli; P. Hoenicke; B. Beckhoff; M. Bersani. - (2009). ((Intervento presentato al convegno Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics 2009 tenutosi a Albany, NY nel May 11-15, 2009.
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| Titolo: | Grazing Incidence x-ray fluorescence and secondary ion mass spectrometry combined approach for characterization of ultra shallow arsenic distribution in silicon |
| Autori: | |
| Data di pubblicazione: | 2009 |
| Handle: | http://hdl.handle.net/11582/21051 |
| Appare nelle tipologie: | 4.3 Poster |
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http://hdl.handle.net/11582/21051
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