IRIS Institutional Research Information System

Chemical and morphological characterization of nanoporous silica low-k dielectrics etched in fluorocarbon plasmas

Lazzeri, Paolo;Anderle, Mariano;Iacob, Erica;
2004-01-01
2004
5.12 Altro
File in questo prodotto:
Non ci sono file associati a questo prodotto.

I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.

Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/11582/51216
 Attenzione

Attenzione! I dati visualizzati non sono stati sottoposti a validazione da parte dell'ateneo

Citazioni
  • ???jsp.display-item.citation.pmc??? ND
social impact