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A comparison between mass spectrometry techniques on oxynitrides
1998-01-01 Bersani, Massimo; M., Sbetti; Anderle, Mariano
An EXAFS investigation of Arsenic shallow implant activation in silicon after laser sub-melt annealing
2006-01-01 Giubertoni, Damiano; Pepponi, Giancarlo; Bersani, Massimo; Gennaro, Salvatore; F., D'Acapito; R., Doherty; M. A., Foad
Arsenic Shallow Implant Characterization by Magnetic Sector and TOF-SIMS Instruments
2002-01-01 Giubertoni, Damiano; Barozzi, Mario; Lazzeri, Paolo; Anderle, Mariano; Bersani, Massimo
As ultra shallow depth profiling: comparison between SIMS and MEIS techniques
2004-01-01 Giubertoni, Damiano; Barozzi, Mario; S., Pederzoli; Anderle, Mariano; Bersani, Massimo; J. A., van den Berg; M., Werner
Caratterizzazione SIMS ToF-SIMS e XPS di Ossidonitruri
1998-01-01 M., Sbetti; Vanzetti, Lia Emanuela; Bersani, Massimo; Anderle, Mariano
Characterization of Junction Activation and Deactivation Using non-Equilibrium
2009-01-01 Bersani, Massimo; Pepponi, Giancarlo; Giubertoni, Damiano; Gennaro, Salvatore; M. A., Sahiner; S. P., Kelty; M., Kah; K. J., Kirkby; R., Doherty; M. A., Foad; Meirer, Florian; C., Streli; J. C., Woicik; P., Piane
Combined XPS, SIMS and AFM analysis of silicon nano-crystals embedded in silicon oxide layers
2007-01-01 Vanzetti, Lia Emanuela; Barozzi, Mario; Iacob, Erica; Bersani, Massimo; Pucker, Georg; Bellutti, Pierluigi
Comparison between the SIMS and MEIS techniques for the characterization of ultra shallow arsenic implants"
2005-01-01 Giubertoni, Damiano; Bersani, Massimo; Barozzi, Mario; S., Pederzoli; Iacob, Erica; J. A., van den Berg; M., Werner
D-Sims and TOF-SIMS quantitative depth profiles on ultra thin oxinitrides
2001-01-01 Bersani, Massimo; Giubertoni, Damiano; Barozzi, Mario; Iacob, Erica; Vanzetti, Lia Emanuela; Anderle, Mariano; P., Lazzeri; B., Crivelli; F., Zanderigo
Deactivation of sub-melt laser annealed arsenic ultra shallow junctions in silicon during subsequent thermal treatment
2009-01-01 Giubertoni, Damiano; Pepponi, Giancarlo; M. A., Sahiner; S. P., Kelty; M., Kah; K. J., Kirkby; Meirer, Florian; Gennaro, Salvatore; R., Doherty; M. A., Foad; J. C., Woicik; C., Streli; Bersani, Massimo; P., Pianetta
Titolo | Data di pubblicazione | Autore(i) | File |
---|---|---|---|
A comparison between mass spectrometry techniques on oxynitrides | 1-gen-1998 | Bersani, Massimo; M., Sbetti; Anderle, Mariano | |
An EXAFS investigation of Arsenic shallow implant activation in silicon after laser sub-melt annealing | 1-gen-2006 | Giubertoni, Damiano; Pepponi, Giancarlo; Bersani, Massimo; Gennaro, Salvatore; F., D'Acapito; R., Doherty; M. A., Foad | |
Arsenic Shallow Implant Characterization by Magnetic Sector and TOF-SIMS Instruments | 1-gen-2002 | Giubertoni, Damiano; Barozzi, Mario; Lazzeri, Paolo; Anderle, Mariano; Bersani, Massimo | |
As ultra shallow depth profiling: comparison between SIMS and MEIS techniques | 1-gen-2004 | Giubertoni, Damiano; Barozzi, Mario; S., Pederzoli; Anderle, Mariano; Bersani, Massimo; J. A., van den Berg; M., Werner | |
Caratterizzazione SIMS ToF-SIMS e XPS di Ossidonitruri | 1-gen-1998 | M., Sbetti; Vanzetti, Lia Emanuela; Bersani, Massimo; Anderle, Mariano | |
Characterization of Junction Activation and Deactivation Using non-Equilibrium | 1-gen-2009 | Bersani, Massimo; Pepponi, Giancarlo; Giubertoni, Damiano; Gennaro, Salvatore; M. A., Sahiner; S. P., Kelty; M., Kah; K. J., Kirkby; R., Doherty; M. A., Foad; Meirer, Florian; C., Streli; J. C., Woicik; P., Piane | |
Combined XPS, SIMS and AFM analysis of silicon nano-crystals embedded in silicon oxide layers | 1-gen-2007 | Vanzetti, Lia Emanuela; Barozzi, Mario; Iacob, Erica; Bersani, Massimo; Pucker, Georg; Bellutti, Pierluigi | |
Comparison between the SIMS and MEIS techniques for the characterization of ultra shallow arsenic implants" | 1-gen-2005 | Giubertoni, Damiano; Bersani, Massimo; Barozzi, Mario; S., Pederzoli; Iacob, Erica; J. A., van den Berg; M., Werner | |
D-Sims and TOF-SIMS quantitative depth profiles on ultra thin oxinitrides | 1-gen-2001 | Bersani, Massimo; Giubertoni, Damiano; Barozzi, Mario; Iacob, Erica; Vanzetti, Lia Emanuela; Anderle, Mariano; P., Lazzeri; B., Crivelli; F., Zanderigo | |
Deactivation of sub-melt laser annealed arsenic ultra shallow junctions in silicon during subsequent thermal treatment | 1-gen-2009 | Giubertoni, Damiano; Pepponi, Giancarlo; M. A., Sahiner; S. P., Kelty; M., Kah; K. J., Kirkby; Meirer, Florian; Gennaro, Salvatore; R., Doherty; M. A., Foad; J. C., Woicik; C., Streli; Bersani, Massimo; P., Pianetta |
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Data di pubblicazione
- 2010 - 2013 4
- 2000 - 2009 28
- 1998 - 1999 4
Keyword
- SIMS 11
- silicon 9
- arsenic 6
- ion implantation 6
- boron 4
- MEIS 4
- ultra shallow junctions 4
- EXAFS 3
- characterization 2
- doping 2
Lingua
- eng 31
- ita 4
Accesso al fulltext
- no fulltext 36