Stress and interfacial defects induced by amorphous carbon film growth on silicon

Macchi, C.; Mariazzi, S.; Zecca, A.; Karwasz, G. P.; Brusa, R. S.; Bensaada Laidani, Nadhira; Bartali, Ruben; Gottardi, Gloria; Anderle, Mariano

Stress and interfacial defects induced by amorphous carbon film growth on silicon / C. Macchi; S. Mariazzi; A. Zecca; G. P. Karwasz; R. S. Brusa; N. Laidani; R. Bartali; G. Gottardi; M. Anderle. - (2004). ((Intervento presentato al convegno Diamond 2004 tenutosi a Riva del Garda, TN, Italy nel September 2004.

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Titolo:	Stress and interfacial defects induced by amorphous carbon film growth on silicon
Autori:	C. Macchi S. Mariazzi A. Zecca G. P. Karwasz R. S. Brusa Bensaada Laidani, Nadhira Bartali, Ruben Gottardi, Gloria Anderle, Mariano mostra contributor esterni nascondi contributor esterni
Data di pubblicazione:	2004
Handle:	http://hdl.handle.net/11582/24149
Appare nelle tipologie:	4.3 Poster

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