CINECA IRIS Institutional Research Information System
IRIS è l’archivio della produzione scientifica della Fondazione Bruno Kessler.
EnglishStress Characterization of Silicon Oxide, Silicon Nitride, Chromium and Gold Films for Micromechanics / A. Bagolini; B. Margesin; V. Guarnieri; F. Giacomozzi; A.Faes; R. Pal; M. Decarli. - (2003), pp. 449-454. ((Intervento presentato al convegno AISEM 2003 tenutosi a Trento, Italy nel da 02/12/2003 a 02/14/2003.
Scheda prodotto non validato
Attenzione! I dati visualizzati non sono stati sottoposti a validazione da parte di FBK.
| Titolo: | Stress Characterization of Silicon Oxide, Silicon Nitride, Chromium and Gold Films for Micromechanics |
| Autori: | |
| Data di pubblicazione: | 2003 |
| Handle: | http://hdl.handle.net/11582/8752 |
| Appare nelle tipologie: | 4.1 Contributo in Atti di convegno |
File in questo prodotto:
Non ci sono file associati a questo prodotto.
Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento:
http://hdl.handle.net/11582/8752
I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.
Copyright © 2018