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Titolo Data di pubblicazione Autore(i) File
An EXAFS investigation of Arsenic shallow implant activation in silicon after laser sub-melt annealing 1-gen-2006 Giubertoni, Damiano; Pepponi, Giancarlo; Bersani, Massimo; Gennaro, Salvatore; F., D'Acapito; R., Doherty; M. A., Foad
Arsenic Shallow Implant Characterization by Magnetic Sector and TOF-SIMS Instruments 1-gen-2002 Giubertoni, Damiano; Barozzi, Mario; Lazzeri, Paolo; Anderle, Mariano; Bersani, Massimo
As ultra shallow depth profiling: comparison between SIMS and MEIS techniques 1-gen-2004 Giubertoni, Damiano; Barozzi, Mario; S., Pederzoli; Anderle, Mariano; Bersani, Massimo; J. A., van den Berg; M., Werner
Characterization of As Implants and Hf Layer with a new Spectrometer for Grazing Incidence XRF 1-gen-2009 C., Streli; D., Ingerle; Meirer, Florian; N., Zoeger; Pepponi, Giancarlo; Giubertoni, Damiano; P., Wobrauschek; C., Streli
Characterization of Junction Activation and Deactivation Using non-Equilibrium 1-gen-2009 Bersani, Massimo; Pepponi, Giancarlo; Giubertoni, Damiano; Gennaro, Salvatore; M. A., Sahiner; S. P., Kelty; M., Kah; K. J., Kirkby; R., Doherty; M. A., Foad; Meirer, Florian; C., Streli; J. C., Woicik; P., Piane
Comparison between the SIMS and MEIS techniques for the characterization of ultra shallow arsenic implants" 1-gen-2005 Giubertoni, Damiano; Bersani, Massimo; Barozzi, Mario; S., Pederzoli; Iacob, Erica; J. A., van den Berg; M., Werner
D-Sims and TOF-SIMS quantitative depth profiles on ultra thin oxinitrides 1-gen-2001 Bersani, Massimo; Giubertoni, Damiano; Barozzi, Mario; Iacob, Erica; Vanzetti, Lia Emanuela; Anderle, Mariano; P., Lazzeri; B., Crivelli; F., Zanderigo
Deactivation of sub-melt laser annealed arsenic ultra shallow junctions in silicon during subsequent thermal treatment 1-gen-2009 Giubertoni, Damiano; Pepponi, Giancarlo; M. A., Sahiner; S. P., Kelty; M., Kah; K. J., Kirkby; Meirer, Florian; Gennaro, Salvatore; R., Doherty; M. A., Foad; J. C., Woicik; C., Streli; Bersani, Massimo; P., Pianetta
Depth profiling and quantification of chlorine and nitrogen in oxynitrides obtained by HTO process 1-gen-2000 Bersani, Massimo; M., Sbettti; Giubertoni, Damiano; Barozzi, Mario; Iacob, Erica
Electrical deactivation of ultra shallow arsenic junction formed by laser sub-melt annealing 1-gen-2007 Giubertoni, Damiano
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Tipologia
  • 5 Altro 31
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Autore
  • Bersani, Massimo 27
  • Barozzi, Mario 18
  • Iacob, Erica 17
  • Pepponi, Giancarlo 11
  • Vanzetti, Lia Emanuela 10
  • Anderle, Mariano 9
  • Gennaro, Salvatore 8
  • Meirer, Florian 4
  • Bortolotti, Mauro 2
  • Fedrizzi, Michele 2
Data di pubblicazione
  • 2010 - 2013 5
  • 2000 - 2009 26
Keyword
  • SIMS 13
  • silicon 11
  • arsenic 7
  • ion implantation 6
  • MEIS 5
  • boron 4
  • EXAFS 4
  • ultra shallow junctions 4
  • doping 3
  • GIXRF 3
Lingua
  • eng 27
  • ita 3
Accesso al fulltext
  • no fulltext 31