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Titolo Data di pubblicazione Autore(i) File
U-shaped MEMS tunable microwave resonators 1-gen-2022 Giacomozzi, F.; Proietti, E.; Capoccia, G.; Sardi, G.; Bartolucci, G.; Iannacci, J.; Margesin, B.; Marcelli, R.
• U. Grassi, G. Marcocci, Le trasgressioni della carne. Il desiderio omosessuale nel mondo islamico e cristiano (sec. XII-XX), Roma, Viella 1-gen-2015 Alfieri, Fernanda
U. Tulli, “Tra diritti umani e distensione. L’amministrazione Carter e il dissenso il URSS” 1-gen-2014 Bernardini, Giovanni
UAV for 3D mapping applications: a review 1-gen-2013 Nex, Francesco Carlo; Remondino, Fabio
UAV photogrammetry for mapping and 3D modeling - Current status and future perspectives 1-gen-2011 Remondino, Fabio; Barazzetti, L.; Nex, F.; Scaioni, M.; Sarazzi,
UHV Compatibility of Organic Materials 1-gen-2001 Anderle, Mariano
UK Grid Simulation with OptorSim 1-gen-2003 D. G., Cameron; R., Carvajal Schiaffino; A. P., Millar; C., Nicholson; K., Stockinger; Zini, Floriano
Ulrich Lappenküper,Mitterrand und Deutschland. Die enträtselte Sphinx, München, Oldenbourg Verlag, 2011, pp. 386. 1-gen-2012 G. D'Ottavio
ULSI Technology and Materials: Quantitative Answers by Combined Mass Spectrometry Surface Techniques 1-gen-1998 Bersani, Massimo; Fedrizzi, Michele; M., Sbetti; Anderle, Mariano
Ultra Compact and Low-power TDC and TAC Architectures for Highly-Parallel Implementation in Time-Resolved Image Sensors 1-gen-2011 Stoppa, David; Borghetti, Fausto; J., Richardson; R., Walker; R. K., Henderson; M., Gersbach; E., Charbon
Ultra low energy Boron implants in silicon characterization by not-oxidizing secondary ion mass spectrometry analysis and soft-ray grazing incidence x-ray fluorescence techniques. 1-gen-2009 Giubertoni, Damiano; Pepponi, Giancarlo; P., Hoenicke; B., Beckhoff; Iacob, Erica; Gennaro, Salvatore; Bersani, Massimo
Ultra low energy Boron ion implants in silicon analyzed by not-oxydizing O2+ bombardment and synchrotron radiation grazing incidence x-ray fluorescence 1-gen-2009 Giubertoni, Damiano; Iacob, Erica; Pepponi, Giancarlo; Bersani, Massimo; Anderle, Mariano; P., Hoenicke; B., Beckhoff
Ultra low noise readout with traveling wave parametric amplifiers: The DARTWARS project 1-gen-2023 Rettaroli, A.; Barone, C.; Borghesi, M.; Capelli, S.; Carapella, G.; Caricato, A. P.; Carusotto, I.; Cian, A.; Di Gioacchino, D.; Serra, Enrico; Falferi, P.; Fasolo, L.; Faverzani, M.; Ferri, E.; Filatrella, G.; Gatti, C.; Giachero, A.; Giubertoni, D.; Granata, V.; Greco, A.; Guarcello, C.; Labranca, D.; Leo, A.; Ligi, C.; Maccarrone, G.; Mantegazzini, F.; Margesin, B.; Maruccio, G.; Mauro, C.; Mezzena, R.; Monteduro, A. G.; Nucciotti, A.; Oberto, L.; Origo, L.; Pagano, S.; Pierro, V.; Piersanti, L.; Rajteri, M.; Rizzato, S.; Vinante, A.; Zannoni, M.
Ultra Low Noise Silicon Drift Detector and CMOS Front-End for X-Ray Spectroscopy with Less than 100 eV Energy Resolution at Room Temperature 1-gen-2014 G. Bertuccio; M. Ahangarianabhari; C. Graziani; D. Macera; Y. Shi; A. Rachevski; I. Rashevskaya; A. Vacchi; G. Zampa; N. Zampa; P. Bellutti; G. Giacomini; A. Picciotto; C. Piemonte
Ultra Low Power Wake-Up Radios: A Hardware and Networking Survey 1-gen-2017 Piyare, Rajeev Kumar; Murphy, Amy Lynn; Kiraly, Csaba; Pietro, Tosato; Davide, Brunelli
Ultra shallow Boron junctions in silicon characterization by secondary ion mass spectrometry and synchrotron radiation grazing incidence x-ray fluorescence techniques 1-gen-2009 Giubertoni, Damiano; P., Hoenicke; B., Beckhoff; Pepponi, Giancarlo; Iacob, Erica; Bersani, Massimo
Ultra Shallow Depth Profiling by Secondary Ion Mass Spectrometry Techniques 1-gen-2003 Anderle, Mariano; Barozzi, Mario; Bersani, Massimo; Giubertoni, Damiano; Lazzeri, Paolo
Ultra shallow junction analysis for technology nodes beyond 65nm 1-gen-2005 Giubertoni, Damiano; Iacob, Erica; Barozzi, Mario; S., Pederzoli; Vanzetti, Lia Emanuela; Anderle, Mariano; Bersani, Massimo
Ultra shallow Junction Formation and Dopant Activation Study of Ga Implanted Si” 1-gen-2005 R., Gwilliam; Gennaro, Salvatore; G., Claudio; B. J., Sealy; C., Mulchay; S., Biswas
Ultra shallow junctions: Analytical solutions for 90 nm technology node" 1-gen-2003 Giubertoni, Damiano; Barozzi, Mario; Bersani, Massimo; P., Lazzeri; M., Anderle
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