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Phosphorous Diffusion in N2+ -Implanted Germanium during Flash Lamp Annealing: Influence of Nitrogen on Ge Substrate Damage and Capping Layer Engineering
2017-01-01 Skarlatos, D.; Ioannou-sougleridis, V.; Barozzi, M.; Pepponi, G.; Velessiotis, D.; Skoulikidou, M. C.; Vouroutzis, N. Z.; Papagelis, K.; Dimitrakis, P.; Thomidis, C.; Colombeau, B.
Post-metallization annealing and photolithography effects in p-type Ge/Al 2 O 3 /Al MOS structures
2022-01-01 Ioannou-Sougleridis, V.; Alafakis, S.; Pecz, B.; Velessiotis, D.; Vouroutzis, N. Z.; Ladas, S.; Barozzi, M.; Pepponi, G.; Skarlatos, D.
Titolo | Data di pubblicazione | Autore(i) | File |
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Phosphorous Diffusion in N2+ -Implanted Germanium during Flash Lamp Annealing: Influence of Nitrogen on Ge Substrate Damage and Capping Layer Engineering | 1-gen-2017 | Skarlatos, D.; Ioannou-sougleridis, V.; Barozzi, M.; Pepponi, G.; Velessiotis, D.; Skoulikidou, M. C.; Vouroutzis, N. Z.; Papagelis, K.; Dimitrakis, P.; Thomidis, C.; Colombeau, B. | |
Post-metallization annealing and photolithography effects in p-type Ge/Al 2 O 3 /Al MOS structures | 1-gen-2022 | Ioannou-Sougleridis, V.; Alafakis, S.; Pecz, B.; Velessiotis, D.; Vouroutzis, N. Z.; Ladas, S.; Barozzi, M.; Pepponi, G.; Skarlatos, D. |
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