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Cr induced nanocrystallization of a-Si thin films: its mechanism 1-gen-2012 Ahamad Mohiddon, M. d.; K., Lakshun Naidu; G., Dalba; Rocca, Francesco; M., Ghanashyam Krishna
Diffusion of implanted nitrogen in germanium. 1-gen-2013 Skarlatos, D.; Barozzi, Mario; Bersani, Massimo; Vouroutzis, N. Z.; Ioannou Sougleridis, V.
Morphologic, structural, and optical characterization of sol-gel derived TiO2 thin films for memristive devices 1-gen-2015 Prusakova, Valentina; Armellini, Cristina; Carpentiero, Alessandro; Chiappini, Andrea; Collini, Cristian; Dirè, Sandra; Ferrari, Maurizio; Lorenzelli, Leandro; Nardello, Marco; Normani, Simone; Vaccari, Alessandro; Chiasera, Alessandro
Observation of point defect injection from electrical de-activation of arsenic ultra-shallow distributions formed by ultra-low energy ion implantation and laser sub-melt annealing 1-gen-2014 Demenev, Evgeny; Meirer, Florian; Essa, Z.; Giubertoni, Damiano; Cristiano, F.; Pepponi, Giancarlo; Gennaro, Salvatore; Bersani, Massimo; Foad, M. A.
On an improved boron segregation calibration from a particularly sensitive power MOS process 1-gen-2014 Koffel, S.; Burenkov, A.; Sekowski, M.; Pichler, P.; Giubertoni, Damiano; Bersani, Massimo; Knaipp, M.; Wachmann, E.; Schrems, M.; Yamamoto, Y.; Bolze, D.
Surface evolution of very high dose arsenic implants in silicon formed by plasma immersion ion implantation – a long term study 1-gen-2014 Meirer, Florian; Demenev, Evgeny; Giubertoni, Damiano; Vanzetti, Lia Emanuela; Gennaro, Salvatore; Fedrizzi, Michele; Pepponi, Giancarlo; Steinhauser, G.; Vishwanath, V.; Foad, M. A.; Bersani, Massimo
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